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2012中国国际半导体技术大会将于3月18日在上海举办

2012-02-17 12:10
科技眼
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2012中国国际半导体技术大会将于3月18日在上海举办

国内外半导体产业界专家汇聚一堂,共同探讨技术最新动态与发展

 

  由SEMI、ECS及中国高科技专家组共同举办的中国国际半导体技术大会(CSTIC 2012)将于3月18-19日在上海举办。IBM公司院士诺贝尔奖得主Dr. Leo Esaki、三星研究院总裁Dr. Kinam Kim及比利时IMEC的总裁Dr. Luc Van den hove将做精彩的开幕演讲。340多位讲师将与1000名国内外半导体产业界学术界人士共同探讨国际最前沿的半导体工艺技术的发展趋势。本次研讨会将为提升中国半导体产业的技术水平,把国际最先进的技术与理念引进中国起到积极的推动作用。

 

  本届大会共设10个技术分会,涉及大半导体的各个领域,包括前道光刻、薄膜、CMP等技术、后道封装与测试,以及MEMS制造等。大会共收到来自海内外的技术投稿超过390篇,经大会技术委员会评审后,共将有300位来自国内外的技术专家为大会带来精彩的报告,70多位讲师带来技术展示海报,其中来自美国的讲师占19%、欧洲10%、日本3%,中国的讲师占58%。本届大会的演讲、与会人数都将创历届会议记录。

 

  在大会主席、IBM Waston研究中心林庆煌博士及来自全球的100位技术专家的大力支持下,本届大会共邀请到了120多名全球顶级专家来到上海,为大会带来的精彩的特邀报告,其中有来自IBM的Doris Bruce,Intel的Vivek Singh,Georgia Institute of Technology的Dennis W. Hess和Eric M. Vogel,University of Alberta的Ken Cadien, Uppsala University的Shili Zhang,ITRI的John Lau,Carnegie Mellon University的R. D. (Shawn) Blanton,CEA-LETI的Barbara De Salvo以及来自UC Berkeley的Liwei Lin。以及来自IBM、Intel、ASE、Samsung、Applied Materials、TEL、中芯国际等公司产业专家,和来自University of Tokyo,UC Berkeley、北京大学、清华大学、复旦大学等全球著名高校的知名学者。

 

  本届大会将沿袭历史,继续由SEMI与ECS共同设立的优秀学生与年轻工程师奖,届时将会揭晓获奖者名单,请大家拭目以待!

 

  本届大会同时得到了IEEE-EDS、美国材料研究协会(MRS)中国电子材料行业协会、 中国化学会电化学专业委员会,以及上海市浦东新区科学技术协会、上海市浦东新区科技发展基金的大力支持。中国国际半导体技术大会已成为一年一度的中国半导体产业技术盛会。

 

  更多详情,请点击查看http://www.semiconchina.org/article_1829_604.htm。
  您可于2月17日前报名参会,享受优惠价格,或与SEMI中国联络:021-50270909
infosemichina@semi.org


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