0.5μm像素,75万尼特,这两项Micro LED技术取得重要突破!
行家说快讯:
近日,Micro LED技术领域迎来了两项重要突破。其中:
■ JBD红光Micro LED亮度突破75万尼特;
■ 韩国科学技术院(KAIST)使用聚焦离子束等技术开发出0.5μm像素的Micro LED。
01
JBD红光Micro LED亮度突破75万尼特
近日,JBD宣布其在Micro LED芯片表面处理技术方面取得了重大突破,在同功耗情况下,Micro LED亮度实现了再度突破,由50万尼特提升至75万尼特,且保持了优良的可靠性。
JBD透露,预计将在2023年中期量产该项技术,并计划将其应用于一款体积仅有0.4cc的超微型彩色光引擎,该光引擎将于5月份在美国洛杉矶SID Display Week亮相。
据悉,该光引擎体积仅有0.4cc(立方厘米),重量仅有1.0克,但可以输出超过4 流明的光通量。光引擎标准视场角30°,支持25°~45°视场角定制。
搭配市面的高光效波导,可以得到入眼2000尼特的超高亮度,且功耗可低至260毫瓦,支持智能眼镜(Smart Glasses)的全天使用。
JBD表示,相较于LCoS和DLP,因其背光源的特点,实现的光引擎体积至少要2~3cc,又因背光源需要长时间点亮,所以功耗一般在500毫瓦以上。0.4 cc光引擎突破了技术屏障,同时实现智能眼镜对光引擎“轻小”、“高亮”、“低功耗”、“低成本”的苛刻要求。
据JBD介绍,截至目前JBD出货已超100万颗Micro LED微显示屏,加之合肥工厂投产在即,投产后将助力JBD实现年产1.2亿个面板的产能建设。
02
KAIST开发出0.5μm像素Micro LED
韩国科学技术院(KAIST)2月22日宣布,由物理系 Cho Yong-hoon 教授领导的团队使用聚焦离子束等技术实现了0.5μm像素超高分辨率Micro LED,这还不到人类头发厚度(约 100μm)的1/100。
技术方面,KAIST研究团队新开发了亚微米级像素化技术,即使用聚焦离子束创建亚微米级超小像素,可有效避免传统蚀刻法带来的各种缺陷,无需任何预处理或后处理。
聚焦离子束是广泛用于超高倍率成像或纳米结构制造的技术,它不会引起材料表面的结构变形,并允许自由设置像素形状。
但由于光束击中的区域及其周围的发光迅速减少,很难使用LED等发光体。KAIST研究团队通过使用减弱的聚焦离子束解决了这个问题。
据悉,上述研究成果于13日在线发表于材料科学领域的世界知名学术期刊《Advanced Materials》。
据行家说Display了解,2022年,KAIST也公开过多项Micro LED研究成果。
其中,2022年7月,KAIST宣布,由电气电子工程学院的Sang-Hyun Kim教授领导的研究团队利用单片式3D集成技术,成功研发了1600 PPI等效Micro LED显示器,可用于AR/VR。
该研究还获得了三星未来技术开发中心的支持。
2022年11月,KAIST宣布,研究所的研究人员开发了一种 Micro LED 可穿戴贴片,可抑制由紫外线诱导的黑色素生成,这种深色素的生成可导致皮肤病。
END
原文标题 : 0.5?像素,75万尼特,这两项Micro LED技术取得重要突破!
图片新闻
最新活动更多
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
-
即日-1.14火热报名中>> OFweek2025中国智造CIO在线峰会
-
限时免费立即试用>> 燧石技术,赋光智慧,超越感知
-
7.30-8.1马上报名>>> 【展会】全数会 2025先进激光及工业光电展
-
精彩回顾立即查看>> 2024 智能家居出海论坛
-
精彩回顾立即查看>> 2024视觉感知技术在半导体与印刷包装创新大会
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论