OFweek分享:LED用蓝宝石基板(衬底)详细介绍(附图)
2011-09-27 14:59
来源:
OFweek半导体照明网
3,图案化蓝宝石基板(Pattern Sapphire Substrate简称PSS)
以成长(Growth)或蚀刻(Etching)的方式,在蓝宝石基板上设计制作出纳米级特定规则的微结构图案藉以控制LED之输出光形式,并可同时减少生长在蓝宝石基板上GaN之间的差排缺陷,改善磊晶质量,并提升LED内部量子效率、增加光萃取效率。
通常,C面蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜是沿着其极性轴即c轴方向生长的,薄膜具有自发极化和压电极化效应,导致薄膜内部(有源层量子阱)产生强大的内建电场,(Quantum Confine Stark Effect, QCSE;史坦克效应)大大地降低了GaN薄膜的发光效率. 在一些非C面蓝宝石衬底(如R面或M 面)和其他一些特殊衬底(如铝酸锂;LiAlO2 )上生长的GaN薄膜是非极性和半极性的,上述由极化场引起的在发光器件中产生的负面效应将得到部分甚至完全的改善.传统三五族氮化物半导体均成长在c-plane 蓝宝石基板上,若把这类化合物成长于R-plane 或M-Plane上,可使产生的内建电场平行于磊晶层,以增加电子电洞对复合的机率。因此,以氮化物磊晶薄膜为主的LED结构成长R-plane 或M-Plane蓝宝石基板上,相比于传统的C面蓝宝石磊晶,将可有效解决LED内部量子效率效率低落之问题,并增加元件的发光强度。最新消息据称非极性LED能使白光的发光效率提高两倍.
由于无极性GaN具有比传统c轴GaNN更具有潜力来制作高效率元件,而许多国际大厂与研究单位都加大了对此类磊晶技术的研究与生产.因此对于R-plane 或M-Plane 蓝宝石基板的需求与要求也是相应地增加。
下图为半极性和无极性面的简单示意图
通常,C面蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜是沿着其极性轴即c轴方向生长的,薄膜具有自发极化和压电极化效应,导致薄膜内部(有源层量子阱)产生强大的内建电场,(Quantum Confine Stark Effect, QCSE;史坦克效应)大大地降低了GaN薄膜的发光效率. 在一些非C面蓝宝石衬底(如R面或M 面)和其他一些特殊衬底(如铝酸锂;LiAlO2 )上生长的GaN薄膜是非极性和半极性的,上述由极化场引起的在发光器件中产生的负面效应将得到部分甚至完全的改善.传统三五族氮化物半导体均成长在c-plane 蓝宝石基板上,若把这类化合物成长于R-plane 或M-Plane上,可使产生的内建电场平行于磊晶层,以增加电子电洞对复合的机率。因此,以氮化物磊晶薄膜为主的LED结构成长R-plane 或M-Plane蓝宝石基板上,相比于传统的C面蓝宝石磊晶,将可有效解决LED内部量子效率效率低落之问题,并增加元件的发光强度。最新消息据称非极性LED能使白光的发光效率提高两倍.
由于无极性GaN具有比传统c轴GaNN更具有潜力来制作高效率元件,而许多国际大厂与研究单位都加大了对此类磊晶技术的研究与生产.因此对于R-plane 或M-Plane 蓝宝石基板的需求与要求也是相应地增加。
下图为半极性和无极性面的简单示意图
无极性面是指极性面法线方向上的面,而半极性面则是介于极性面和无极性面之间的面
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