引发日韩半导体之争的氟化氢的到底有多重要？
日本和韩国擦枪走火，日本宣布对出口韩国的三种半导体材料将采取更为严格的规范。
自7月4日起日本将取消韩国的最惠国待遇，在氟化聚酰亚胺、光刻胶、氟化氢这三种材料出口上，从原先的免申请出口许可，改为逐案审核，相关审查流程最长将达90个工作日。
而引发日韩半导体之争的氟化氢对于韩国来说意味着什么，如此重要的原材料被限制如何破局也成为关键。
寻求原材料解决之道
受日本政府限制对韩出口半导体关键材料影响，韩国半导体企业十分重视半导体材料调配问题，三星电子已从比利时采购部分核心原材料。
目前三星电子现已在比利时某化学公司找到光刻胶货源，并已向该公司下单购买6至10个月需求量的货品。光刻胶正是日本7月4日宣布限制向韩国出口的3种半导体关键材料之一。
目前具体公司名称没有透露，但被认为指的是日本化学企业JSR和比利时微电子研究中心（IMEC）2016年设立的合资公司EUVResist。EUVResist最大股东是JSRMicro，JSRMicro是JSR在比利时的子公司。
三星并没有证实，仅强调其正在多元化其供应管道措施，来因应日本限制措施。且韩国政府正计划明年大幅提高国家出资的研发支出，以培育和发展主要从海外进口的关键工业材料和设备，同时加强致力于在本土生产。
氟化氢之于半导体之中
氟化氢是一种一元弱酸，有毒性，极易挥发，氟化氢用途非常广泛，其中高纯度的氟化氢（HF）对半导体材料的生产至关重要，氟化氢主要用来切割半导体基板，在半导体产品制造的600多道工序中，使用氟化氢的次数有时多达十多次。
氟化氢应用于半导体生产过程中的蚀刻与杂物清除工序。今年一至五月份韩国企业进口的氟化氢，以总价额计分别为中国占46．3％，日本43．9％，中国台湾9．7％，印度0．1％。
高纯度氟化氢是半导体用的刻蚀气体，主要用于晶圆表面清洗、芯片加工过程的清洗和腐蚀，依据不同的气体种类，其对应的制造商也有所不同。
总体而言，这类气体的供应商有关东电化工业、昭和电工、DAIKIN工业、StellaChemifa、森田化工等。
其中，森田化工在国内有工厂，StellaChemifa虽然主要是在日本厂生产，但在韩国也有合资公司。
在这一原材料中，虽然日本供应商占一定份额，但非日系供应商也不少，韩国也有刻蚀气体供应商FOOSUNG，再者，其国内的供应商其实不少，因此这块不至于被日本厂商掐着脖子，最大差别可能在于质量上，日本供应商的质量相对较高。
氟化氢对半导体生产环节至关重要、又没办法长期保存囤货，难怪三星乃至整个韩国的半导体企业如此心急了。
不仅如此，想要抛开日本去需求替代品都很难找到，因为有能力生产上述三种材料（氟聚酰亚胺、光刻胶及高纯度氟化氢）、且纯度能够达到半导体制造业使用需求的，主要都是日本和美国企业，其中日本企业占据的份额高达90％、少的也有70％，难怪日本要对这几种材料下手了，他们的底气就在这里。
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