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OFweek总结:LED产业的发展趋势

  当前,国外公司在LED用荧光粉方面技术成熟,且持有大部分重要专利。他们通过对荧光粉专利的把持而占领LED市场,YAG:Ce3+荧光粉的专利主要由Nichia占有[U.S.5998925],Osram则占据了Tb3Al5O12: Ce3+的荧光粉专利[U.S. 6812500, 6060861,65276930],TG、LWB和Tridonic持有掺Eu2+(SrBaCa)2SiO4Si:Al,B,P,Ge的专利[U.S.6809347],Intematix持有掺Eu2+(SrBaMg)2SiO4O:F,Cl,N,S的专利[U.S.20060027781, 200627785,200628122].反观国内,LED用荧光粉方面的研究大多集中在科研院所,主要是对现有荧光粉材料的合成和发光等物性的研究上,而在产业化技术的开发上做的不够。

   5,白光LED光学新模型的建立

  荧光粉应用于白光LED,还需根据LED的具体需求而定,诸如荧光粉的颗粒大小等等。对荧光粉的研究主要集中在荧光粉的光学性质对白光led封装性能的影响,例如取光效率、颜色空间分布以及光色质量上面。在这些研究中,采用蒙特卡洛光线追迹的方法利用光学软件模拟LED封装结构的光学性能,将荧光粉层处理成Mie散射材料,这样能够通过光学模拟获得白光LED的激发和发射特性,但是模拟没有考虑到荧光粉具体的散射特性,缺少实验验证。

  6,新型荧光粉涂覆方式
   
  传统的荧光粉涂覆方式为点粉模式,即荧光粉与胶体的混合物填充到芯片支架杯碗内,然后加热固化。这种涂覆方式荧光粉量难以控制,并且由于各处激发光不同,使得白光LED容易出现黄斑或者蓝斑等光色不均匀现象。PhilipsLumileds公司提出了保形涂覆的荧光粉涂覆方式,它们在倒装LED芯片表面覆盖一层厚度一致的荧光粉膜层,提高了白光LED的光色稳定性。也有公司采用在芯片表面沉积一层荧光粉的方法来实现激发。这些涂覆方式都是将芯片与荧光粉接触。H.Luo等研究者的光学模拟结果表明,这种荧光粉与芯片接触的近场激发方法,增加了激发光的背散射损耗,降低了器件的取光效率。澳大利亚的Sommer采用数值模拟的方法模拟PhilipsLumileds的荧光粉保形涂覆结构,结果显示这种涂覆方法并不能提供更好的角度均匀性。随着对白光LED光学模拟的深入,荧光粉远场激发的方案显示了更多的优越性。

  7,大电流注入及散热结构

  为了满足通用照明高光通量的需求,人们提高了单颗芯片的驱动功率,以往1W的大功率芯片被注入到3W、5W,甚至更高。这使得白光LED的热问题越来越严重,人们采用各种散热技术,如热管、微热管、水冷、风冷等方法对LED实施散热。

 
 

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